等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好,磁控设备用都可以.为什么.哪位大侠帮个忙我只加了氩气,辉光就不正常,等离子区向下,不加偏压,基片接地才能正常起辉

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/05 00:07:25
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我只加了氩气,辉光就不正常,等离子区向下,不加偏压,基片接地才能正常起辉。什么原因

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你放电装置出现的问题在于:
采用了DC放电,需要电流回路.
DC放电的高压电极为负压,当基片加置负偏压时,DC电源(用于放电那个)不同通过基片分支放电,由此出现你所说的不能起辉.
你这种放电方式可以实现所谓的不等位辉光放电(太原工学院,徐重教授专利),实际上是变形的空心阴极放电,可以实现高放电电流工作.
你目前没有获得这种有益效应,可以如下尝试:
(1)先启动DC放电并保持偏压电源输出(偏压电源是否对地输出?)为零,达到放电最高功率后,再开启偏压电源;
(2)控制装置地,用绝缘物覆盖靠近电极附近的金属腔体,使放电回路向下延伸;
(3)提高偏压电源输出电压、功率,电压绝对值低于DC放电电压,二者形成不等位的空心阴极放电.

谁知道等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)英文全称是什么? 等离子体辅助化学气相沉积pevcd基片上加负偏压为什么效果不好,磁控设备用都可以.为什么.哪位大侠帮个忙我只加了氩气,辉光就不正常,等离子区向下,不加偏压,基片接地才能正常起辉 磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?我就知道一个是物理气相沉积,一个是化学气相沉积,其他的都不是很了解,他们的具体原理上的区别? 有没有GS400-2型等离子体增强化学气相沉积设备?什么地方产的?价格是多少? 物理气相沉积法与化学气相沉积法有何区别 气相沉积 化学气相沉积中典型的化学反应有哪些? 解释一下化学气相沉积法制备纳米材料 请问CVD(化学气相沉积)的原理及应用?请问CVD(化学气相沉积)镀膜的原理及应用? 太阳能电池片等离子体化学气相沉积法(PECVD)中的工艺问题!1,温度对硅片的影响!2,时间对硅片的影响?3,硅烷对硅片的影响?4,氨气对硅片的影响?5,RF功率与脉冲对硅片的影响?如果硅片发白怎 CVD(化学气相沉积)的原理及应用是什么 气相沉积法的应用 化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜的反应原理化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜,其反应原理为什么?要化学方程式 什么是化学气相沉积法?它对对原料,产物和反应类型的要求有哪些 如果用化学气相沉积法在硅片上镀铝,请问最大厚度能够达到多少? 气相色谱仪辅助气的左右是什么?注意,不是载气,是辅助气的作用,一般为氮气. 物理气相沉积涂覆工艺是什么 物理气相沉积法制膜包括哪些基本过程 请问气相色谱中辅助气体有何用?