紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/05 05:45:48
紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么

紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么
紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么

紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么
半导体工艺——光刻
紫外负性光刻胶
显影液:二甲苯.清洗液:乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯.
显影中的常见问题:
a、显影不完全(Incomplete Development).表面还残留有光刻胶.由显影液不足造成.
b、显影不够(Under Development).显影的侧壁不垂直.由显影时间不足造成.
c、过度显影(Over Development).靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解,形成台阶.由显影时间太长造成.